1.日 時

2024年12月4日（水）14時30分より16時まで

2.開催方法

Web（Zoom）での配信となります。ZoomのURL等詳細につきましては、参加者の皆様に追ってご連絡させていただきます。

3.テーマ

半導体製造における汚染制御技術
～半導体製造時の汚染の影響と最新の対策技術～

4.講師

白水好美　氏（オフィスシラミズ）

5.内 容

半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、洗浄技術、汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と最新の動向についてお話しします。

6.参加費

4,200円 (1名につき 消費税込)

申し込み戴きました後、ご請求書をお送りしますので、1週間前（11月27日）までに銀行振込・郵便振替にてお支払いいただき、振込票の控もしくは支払通知書をFAXでお送り下さい。なお、出席回答の後無断欠席の場合は参加費を頂きます。また、配布資料送付後の参加申込キャンセルは受付出来ません。

7.定 員

無し

8.申込方法

申込書をお持ちの方
必要事項ご記入後(公社)日本空気清浄協会までFax（FAX 03-3665-5593）、メール（jaca@jaca-1963.or.jp）または郵送にてお送りください。

申込書をお持ちでない方
お申込FAX用紙を印刷して内容ご記入の上お送りください。

E-mail
「380回クリーンテクノロジー研究会申込」、氏名、会社名、所属、所在地、電話を明記の上、jaca@jaca-1963.or.jpまで送信ください。

申込フォーム
イベント申込フォームより、内容ご記入の上、送信ボタンを押してください。